精密測(cè)量技術(shù)是工業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)和先決條件，這已被生產(chǎn)發(fā)展的歷史所確認(rèn)。從成產(chǎn)發(fā)展的歷史來看，機(jī)械加工精度的提高總是與測(cè)量技術(shù)的發(fā)展水平密切相關(guān)的。因此，有人認(rèn)為，材料、精密加工、精密測(cè)量與控制是現(xiàn)代精密工程（包括宇航）的三大支柱。對(duì)于科學(xué)技術(shù)來說，測(cè)量與控制是使其發(fā)展的促進(jìn)因素，測(cè)量的精度和效率在一定程度上決定著科學(xué)技術(shù)的水平。
一、概述
隨著科學(xué)技術(shù)發(fā)展與制造業(yè)的發(fā)展，對(duì)微小尺寸的測(cè)量要求越來越迫切。從機(jī)械工業(yè)、電子工業(yè)到生物工程以及環(huán)境保護(hù)等；從尖端科學(xué)的熱核反應(yīng)到日常生活中的化學(xué)纖維，都有微小尺寸測(cè)量的問題。如：制導(dǎo)系統(tǒng)的毫米級(jí)大小的軸承；機(jī)械加工中的小孔、細(xì)絲、小球面；光學(xué)加工中的鍍層厚度；計(jì)算機(jī)中磁頭——磁盤間的微小間隙等等，盡管微小尺寸測(cè)量的對(duì)象各種各樣，測(cè)量方法不盡相同，但它們共同的特點(diǎn)是：測(cè)量范圍小，分辨力及精度要求高，自動(dòng)化程度高，難度很大。面對(duì)這樣的課題，迫切需要一些新的測(cè)量原理方法。
二、發(fā)展趨勢(shì)
1、新的物理、新材料及新技術(shù)的應(yīng)用。如電子顯微鏡，超聲顯微鏡，光電技術(shù)，激光干涉技術(shù)，電視圖像分析技術(shù)，新材料及相應(yīng)的涂覆工藝等；
2、利用電子計(jì)算機(jī)技術(shù)和數(shù)據(jù)處理的方法，檢驗(yàn)和控制處理過程。如圓度儀、三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)等；
3、利用圖像測(cè)量與識(shí)別技術(shù)測(cè)量復(fù)雜或微小零件。如高精度大規(guī)模集成電路線寬的精密測(cè)量，航空、航天領(lǐng)域所需的陶瓷類微小元件的精密測(cè)量等；
4、在線測(cè)量用坐標(biāo)測(cè)量機(jī)的開發(fā)與應(yīng)用。如FMS線上與加工中心組成一體的坐標(biāo)測(cè)量機(jī)。它主要用于判別工件的合格性，以掌握線內(nèi)各機(jī)床的工作狀態(tài)，指導(dǎo)機(jī)床調(diào)整等工作；
5、納米測(cè)量技術(shù)的開發(fā)與應(yīng)用。如精度長(zhǎng)度、角度、定位以及表面微細(xì)形狀與表面粗糙度的測(cè)量；
6、新的測(cè)量原理的研究與應(yīng)用。新的測(cè)量方法的研究是幾何量精密測(cè)量?jī)x發(fā)展的排頭兵，其最為關(guān)鍵，難度也最大。它綜合了物理、物性、電子、電磁、材料、機(jī)械等多學(xué)科的內(nèi)容，諸如CCD、SMT等都屬于創(chuàng)新之列；
7、各種技術(shù)的綜合應(yīng)用。這些技術(shù)包括微電子技術(shù)、控制技術(shù)、數(shù)字技術(shù)、計(jì)算機(jī)技術(shù)、光電技術(shù)、新材料和精密機(jī)械等。這種綜合或集成的發(fā)展趨勢(shì)，必將促使各種技術(shù)的緊密結(jié)合與綜合應(yīng)用，推動(dòng)幾何量精密測(cè)量?jī)x向更高的層次發(fā)展。排除污染品。
